A China começou a produzir em escala máquinas domésticas de litografia DUV por imersão, equipamento essencial para gravar circuitos em lâminas de silício. O esforço é liderado pela pouco conhecida estatal Shanghai Aishengna Electronic Technology Group.

A tecnologia ainda está distante do desempenho e da confiabilidade dos equipamentos equivalentes da holandesa ASML. Mesmo assim, representa uma alternativa estratégica caso restrições ocidentais limitem ainda mais a compra ou a manutenção de máquinas estrangeiras.

A produção prevista é pequena: aproximadamente cinco unidades em 2026 e cerca de 20 em 2027. Os primeiros equipamentos devem ser destinados a fabricantes chinesas como SMIC, Hua Hong e CXMT para testes e possível uso industrial.

Máquinas DUV por imersão usam uma camada de água entre a lente e o wafer para imprimir padrões menores. Com múltiplas exposições, elas também podem produzir chips mais avançados, embora com maior complexidade, custo e risco de defeitos.

O passo é relevante porque litografia é um dos maiores gargalos da cadeia mundial de semicondutores. Produzir uma máquina funcional, contudo, não equivale a operar milhares de wafers com rendimento, alinhamento e disponibilidade adequados para fabricação em grande volume.

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